半導体製造用超純水のろ過

超純水ろ過/
精製の要件

超純水は、半導体集積回路の製造プロセス全体で幅広く利用されるため、これを製造し維持することは極めて重要です。

ディスプレイ業界では、ここ数年の急速な技術進歩によって、清浄度に対する要求が厳しくなりました。特にコロイダルシリカや微粒子、全有機炭素量 (TOC)、細菌、パイロジェン (細菌の断片)、金属イオンなどは、定量的に除去する必要があります。

超純水 (UPW) システムの要所に適切にフィルターを設置することで、この厳しい要求の実現を確実にします。重要な領域へ、どのような機能のフィルターを設置するかで、水質の違いが計測値として現れるからです。

  半導体向け概要
半導体-用途
半導体 – 化学薬品
半導体 - CMP
半導体-ガスのろ過・精製
半導体 – リソグラフィ
半導体-超純水
半導体-環境とリサイクル
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