超純水

General Filter Requirements
Achieving and maintaining ultrapure  water (UPW) is extremely important in light of its widespread presence throughout the manufacture of semiconductor integrated circuits.ディスプレイ業界では、ここ数年の急速な技術進歩によって、清浄度に対する要求が厳しくなりました。特にコロイダルシリカや微粒子、全有機炭素量 (TOC)、細菌、パイロジェン (細菌の断片)、金属イオンなどは、定量的に除去する必要があります。

超純水システムの要所に適切にフィルターを設置することで、この厳しい要求の実現を確実にします。重要な領域へ、どのような機能のフィルターを設置するかで、水質の違いが計測値として現れるからです。高純度の純水 (DI)システム用フィルターには、下記ような品質性能が必要となります。

  • Not contribute organic, particulate or metal ion contamination to the effluent stream
  • Not unload trapped contaminants or shed filter material
  • Be integrity testable to verify removal ratings
  • Perform identically from lot to lot
  • 長いろ過寿命と高いコスト効率を実現するために、圧力損失が低いこと。

DI Water Filter
優れたUPWシステムでは、適切に選定したフィルターや精製製品を要所に配置しています。以下は、純水システムの概略図です。この図では、一般的な水システムにおけるフィルター設置例を示しています。
Ultrapure Water Introduction 

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Semiconductor-Ultrapure Water Products