データストレージ製造-基板洗浄

ハードディスク洗浄プロセスは、特に、開発中の新記録メディア、PMR (垂直磁気記録)、HAMR (熱アシスト磁気記録)、およびBPM (ビットパターンドメディア) の生産において、基板やメディアを微粒子および汚染物質から保護するために必要不可欠です。

分離システムは、研磨後の基板洗浄やスパッタ前後のメディア洗浄に使用されています。一般的な洗浄システムには、次の3つのシステムのいずれかが使用されます。 循環またはシングルパスシステム、高速ジェット噴射または高速ダンプ洗浄、あるいはメカニカル・スクラブ洗浄システムがあります。

これらの洗浄システムには通常、周囲水または温純水を使用するもの、アルカリ洗浄液を使用するもの、またはアルカリ洗浄液を使用しないものなど、複数の工程があります。これらの洗浄槽にパーティクルがない状態に保つために、ろ過は不可欠です。

ろ過は、将来的にグライドの高さが5nmレベルに近づくことで、50nmよりも細かい微粒子の除去や極めて低い差圧、溶出物を出さないといった要求により、さらに重要になります。

  データストレージ概要ディスプレイ - 用途
データストレージ - 前処理
データストレージ - 無電解ニッケルめっき
データストレージ - CMP
データストレージ - 基板洗浄
データストレージ - 潤滑剤Find a Pall Representative for Answers to Ordering Questions
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ポールは、サブストレートおよびメディアの洗浄工程のあらゆる用途向けで、30-100 nmまで幅広いろ過精度の最先端技術と製品を提供しています。

基板洗浄用ろ過・精製製品
(データストレージ製造向け)

フィルター

エンフロン (化学薬品ろ過)
エンフロン (化学薬品ろ過)このフィルターは、PTFEとポリプロピレンに適合性のある化学薬品用として推奨されています。


ペンフロン
ペンフロン・フィルター (リソグラフィー)このフィルターは、PTFEおよび高密度ポリエチレン (HDPE) に適合するフォトレジストや化学薬品のバルクろ過に適しています。


フローライト・ハイフロー
フローライト・ハイフローこのフィルターは、特許取得済みで最新の親水化処理を行ったPTFEメンブレンを使用するオール・フロロポリマー製カートリッジです。


ウルチプリーツ PC・フィルター
ウルチプリーツ PCこのフィルターは、0.2μmの粒子ろ過精度と、高流量処理が必要な部品洗浄用途向けに、特に推奨されます。





精製用製品

イオンクリーンAN
イオンクリーンANこの精製用フィルターは、特に、有機溶剤の陰イオンや有機溶剤に溶けている樹脂の除去を目的として設計されています。


イオンクリーンSL
イオンクリーンSLこの製品は、有機溶剤と、有機溶剤および樹脂の混合物から金属イオンを除去するために、特別に設計されています。