半導体業界向けろ過・分離技術


汚染制御は、半導体デバイス製造において最も重要な技術課題の1つです。

化学薬品、ガス、水、CMPスラリー、フォトレジストなどのさまざまな流体に関して、ポールのろ過・分離・精製技術を提供しています。

注目情報

  • 金ナノ粒子による評価方法

    ろ過精度10nmのウルチプリーツSP DRフィルターは、ポールで開発した、金ナノ粒子を使った評価方法を採用しています。詳細はこちら... (PDF)
 

半導体向け用途半導体製造用ろ過および精製製品
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