太陽電池製造プロセス用製品

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化学薬品のろ過

クラリス
クラリス・フィルター一貫性に優れたポリプロピレンのメルトブロー方式を用いて製造されたフィルターカートリッジで、テーパー孔構造により高い異物保持能力を持っています。

 

エンフロン PF (化学薬品ろ過)
エンフロン PF・フィルターエンフロン PF・フィルターは、オール・フロロポリマー製のプリーツタイプで、反応性の高いプロセス液体のろ過に適しています。

 

太陽電池の概要
太陽電池向け用途Find a Pall Representative for Answers to Ordering Questions
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ネクシス NXT
ネクシス NXTネクシス・フィルターは、連続したテーパー孔構造のメディアになっており、プレフィルターとファイナルフィルターの両方の機能を併せ持つフィルターです。




プロファイル
プロファイル Ⅱ・フィルタープロファイルⅡ・フィルターは、化学薬品、石油化学、電子、電気めっきなどの幅広い業界の用途でご利用いただけます。プレフィルターとしてもファイナルフィルターとしても使用することができます。
 

プロファイル A/S
プロファイル A/S・フィルターポリフェニレンスルファイド製メディアは不活性であるため、プロファイル A/Sフィルターは最高400° F (205° C) までのさまざまな流体に使用できます。



ウルチプリーツ PK
ウルチプリーツ PKウルチプリーツPK・フィルターは、200L/minを超える流量を処理できるため、システムの設置面積や交換コストを削減することができます。

 



化学薬品ろ過用フィルターハウジング

メガプラスト G2・フィルターハウジング (化学薬品ろ過)
メガプラスト G2・フィルターハウジング (化学薬品ろ過)メガプラストG2ハウジングは、接液部品全部にPFA材を使用することで、超高純度の化学薬品に対する厳しい清浄度要件を満たすよう設計されています。


フレックスボウル
フレックスボウル・フィルターシステムこのカートリッジ1本入れフィルターユニットは、半導体製造で使用される、高純度化学薬品用の厳しい用途向けに特別に設計されています。



VPシリーズ・フィルターハウジング (CMPろ過)
VPシリーズ・フィルターハウジング (CMPろ過)
このVPハウジングは、スラリー、流体適合性のある化学薬品、純水などの低流量の液体用途に適しています。




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ガスろ過

チャンバークリーン・ディフューザー
チャンバークリーン・ディフューザーチャンバークリーンディフューザーを使用すると、大量の気体を均一に流すことができるため、高速のベント時間を実現しながら、チャンバー内の微粒子の巻き上げを制限します。


 

 

エンフロン (ガスろ過)
エンフロン (ガスろ過)エンフロンフィルターは、半導体業界で使用されるバルクガス用途の3ナノメートル (0.003μm) 以上のろ過向けに設計されています。


エンフロン PF (ガスろ過)
エンフロン PF (ガスろ過)これは、活性バルクプロセスガスの3ナノメートル (0.003µm) ろ過向けに設計されたオール・フロロポリマー製プリーツフィルターです。


ガスケットサートPSP
ガスケットサートPSPこのフィルターは、半導体ガス供給システムで使用されるガスパネルの主要構成部品を保護するために設計されています。


ガスクリーン・ライト
ガスクリーン・ライトこのフィルターは、特に、太陽電池や液晶ディスプレイの製造に必要な高純度のガスろ過向けに適した設計となっています。


ハイフロー・エンフロン
ハイフロー・エンフロンハイフロー・エンフロン・フィルターは、流量が2,000Nm3/hr /1,000SCFMを超えるLCDや半導体業界のバルク窒素およびクリーン・ドライエアーの用途向けに設計されています。


PSS
PSS ・フィルターこのフィルターは、化学工業プロセスにおけるさまざまな用途、厳しいろ過レベルが要求される反応性の高い環境で使用されます。



バラファイン VFSH
バラファイン VFSHこのフィルターは、不活性ガスの超高純度ろ過向けに設計されています。

 

 

ガス用フィルターハウジング

HFEフィルターハウジング
HFEフィルターハウジングこのハウジングは、ハイフロー・エンフロン用です。一般的な使用例としては、半導体、フラットパネル・ディスプレイ、および太陽電池の製造プロセスで使用されるバルク窒素 (N2) や圧縮乾燥空気 (CDA) での使用が挙げられます。


SGHフィルターハウジング
SGHフィルターハウジングこのハウジングは、ASMEコード設計を必要とするバルクガス用に設計されています。


 

 

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ガス精製

ガスクリーンⅡ・ ピューリファイヤー
ガスクリーン Ⅱ・ピューリファイヤーガスクリーンⅡ・ピューリファイヤーは、プロセスガスから不純物分子を取り除くことを目的に設計されています。

 

 

PGシリーズ・ガスクリーン・ピューリファイヤーおよびマニホールド
PGシリーズ・ガスクリーン・ピューリファイヤー、マニホールドPGシリーズは、最大1,000slpmのプロセス流量の処理に対応するよう設計されています。

 

 

 

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金属ペーストろ過

ウルチポアGF-HV
ウルチポア GF-HVこのフィルターは、高粘度で高い粒子濃度持つ、スラリーろ過の用途にとって最適です。


 

 

 

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プロセス冷却水ろ過とハウジング

ウルチプリーツ・ハイフロー
ウルチプリーツ・ハイフロー・フィルターハウジングこのフィルターは、冷却水、RO前処理、レジントラップろ過などでの使用に最適です。

 



ウルチプリーツハイフロー・フィルターハウジング
このフィルターハウジングは、ウルチプリーツ・ハイフロー・フィルターを使用して、逆浸透ろ過の前処理や冷却水などの大流量処理用途に対応するよう設計されています。


 

 

 

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水用フィルター

クラリス
クラリス・フィルター一貫性に優れたポリプロピレンのメルトブロー方式を用いて製造されたフィルターカートリッジで、テーパー孔構造により高い異物保持能力を持っています。


マイクローザ・UFモジュール、OLTシリーズ
マイクローザ・UFモジュール、OLTシリーズこのモジュールでは、給水がホローファイバーの外側から内側へ流れます。この流れによって、非常に清潔な水が生成され、透過液側の停滞領域がなくなります。



ポジダイン UP
ポジダイン UPポジダインUP・フィルターは、超精密半導体製造の超純水用ろ過に最適な製品です。    


プロファイル
プロファイル Ⅱ・フィルタープロファイル Ⅱ・フィルターは、99.98%の除去効率で汚染異物を除去することが実証されています。このフィルターは、RO前処理、レジントラップ、冷却水などでの使用に最適です。


プロファイル UP
プロファイル UPこのフィルターは、ウルチプリーツフィルター形状を採用したプリーツタイプのデプスメディアで構成されています。その結果、高流量を実現しながら差圧を小さく抑えるという機能を併せもち、レジントラップ、RO前処理、または冷却水用フィルターとして適しています。


ウルチプリーツ・ハイフロー
ウルチプリーツ・ハイフローこのフィルターは、冷却水、RO前処理、レジントラップろ過などでの使用に最適です。



 

ウルチプリーツ PK
ウルチプリーツ PKウルチプリーツPK・フィルターは、200L/minを超える流量を処理できるため、システムの設置面積や交換コストを削減することができます。


ウォーターファイン
ウォーターファインこれは、優れた流量特性と長いろ過寿命を持つ純水および超純水フィルターです。

 

 

 

 

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廃水処理

バリメム・ベンチトップクロスフロー・パイロットユニット
バリメム・ベンチトップ・クロスフロー・パイロットユニットバリメム・パイロットユニットは、濃縮、分離、精製プロセスを必要とする少量の液体を迅速に評価する目的で設計されています。

 



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