Lithography Application Literature for Semiconductor Manufacturing

 
題名 対象の
サブ
プロセス
プロセス改善 採用上の利点 取り扱い製品
用途  
最適なレジストろ過のためのフィルター選定 (PDF)
  • 193nm
  • 248nm
  • i-線レジスト
  • 低い運転圧
  • ソフトゲルの除去性能
  • マイクロバブル発生の抑制
  • ノンプレウェット
  • 濡れ性の向上
  • 下層反射防止膜でのコーン欠陥の減少
  • トータルコストの削減
 
発行済み/技術
資料
Microbridge reduction in negative tone imaging at photoresist point-of-use filtration(PDF)
  • 193i point-of-use photoresist filtration in both negative and positive tone imaging
  • マイクロブリッジ欠陥の低減
  • 製品歩留りの向上
30nm未満のフィルターの新しい定格方法
金ナノ粒子と保護配位子
(PDF)
N/A
  • パーティクルサイズとメンブレンの引力相互作用の抑制 
N/A
コーター/ディベロッパーにおけるポイントオブユースろ過による欠陥の削減
(PDF) 
  • 193nmレジスト
  • マイクロブリッジ欠陥の大幅な低減
  • 流体の清浄度向上
  • 製品歩留りの向上 
マイクロブリッジ低減のためのろ過条件 (PDF)
  • DUVレジストパターンニング
  • レジストポリマー溶液のポイントオブユース
  • リソグラフィ
  • マイクロブリッジ欠陥の低減
  • マイクロブリッジ欠陥要因であるゲル除去の強化
N/A
レジスト溶剤からの金属イオン除去
- 1999 Microlithography Conference
  • 溶剤
  • プレコート
  • レジスト製造
  • 金属イオンレベルの低減
  • レジスト溶剤の精製による、0.25ミクロン以下の製造プロセスにおけるウェーハ表面のイオン/金属の汚染の削減
N/A 
リソグラフィ材料のろ過の改善による、マイクロブリッジおよびe-testオープン欠陥の削減
via improved filtration of lithography fluids
(PDF) 
  • 193nmレジスト
  • オゾン処理脱イオン水洗浄
     
  • リソグラフィ後のマイクロブリッジ欠陥の大幅な低減
  • マイクロブリッジ欠陥の要因であるソフトゲル汚染のろ過改善 
  • シングルラインオープンD0の低減   
N/A 
サブ
30nm以下のリソグラフィプロセス用フィルター
(PDF)
  • 193nm (ドライ) リソグラフィプロセス 
  • マイクロブリッジ欠陥の除去 
N/A 
欠陥の低減および改善のためのろ過の最適化
193nm BARCリソグラフィーにおける吐出条件 - 2004 SPIE Conference
(PDF) 
  • エッチング
  • CMPおよび洗浄
     
  • 下層反射防止膜におけるさまざまな欠陥の低減
  • ディスペンス条件の改善
  • エッチング後の欠陥の低減
     
N/A  N/A 
ArFリソグラフィにおける欠陥の低減のための最適なフィルターメンブレンの研究 (Fujifilm Interface)  2005 (PDF)
  • 193nmリソグラフィ
  • ブリッジ欠陥の低減
N/A  N/A 
先端リソグラフィーにおける欠陥低減のための50nm以下のろ過の効果 (ARCH Interface)  2004  (PDF)
  • エッチング
  • 193nmリソグラフィ
  • 下層反射防止膜 (BARC)
  • BARCの欠陥低減
  • レジストのポリマーせん断、または必要成分の除去
  • 193nmレジストのマイクロブリッジ欠陥およびBARCのコーン欠陥を低減
N/A  N/A