半導体製造のためのガス精製

今日の半導体製造プロセスでは、線幅が微細化するとともに、ますますプロセスが複雑化するため、新たな課題が絶え間なく発生します。

これまでは深刻な問題とならなかった不純物が、今後はウェハ上の欠陥やプロセス品質の劣化、回収率の低下を招く恐れがあります。

不純物分子 (ガス不純物または揮発性不純物ともいう) は、最近になって欠陥の要因として懸念されています。一般的な不純物分子には、水分や酸素、二酸化炭素、一酸化炭素、ハイドロカーボン、金属カルボニルなどがあります。

これらの不純物は粒子ろ過では除去できないため、除去用の反応性層をもつ材料が必要となります。気流から不純物分子を除去するプロセスはガス精製と呼ばれます。(これは、浮遊粒子およびエアロゾルの除去を示すろ過とは異なります。)

ポールの技術

アレスクリーン・テクノロジー
アレスクリーン製品は、不純物との反応性に優れた100%無機の精製剤を用いています。このテクノロジーによって、不活性ガスや希ガス、非可燃性ガス、ハイドライドガス、パーフロロカーボン・ガス、腐食性ガスなどのガス中の不純物に対し、サブppbレベルの精製能力が提供されます。

当社の精製器には次のような特長と利点があります。

  • 室温で使用できるため、新たな熱源が不要です。
 

半導体向け概要
半導体-用途
半導体 – 化学薬品
半導体 - CMP
半導体 - ガスろ過とガス精製
半導体 – リソグラフィ
半導体-超純水
半導体-環境とリサイクル
半導体製造のガス精製用途別カタログ
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  • 優れた精製剤を小型で均一なフィルターメディアに一体化しており、精製器を垂直方向または水平方向のいずれにも取り付けることができます。
  • ガス精製器は、粒子除去に精製機能が付加されており、装置を変更することなく、既存ラインの粒子除去フィルターに代わってご使用できます。
  • 様々なガスを精製できる各ガス特有の精製剤を有しております。
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