半導体製造のための気体粒子ろ過

最先端のデバイス製造のためのプロセス要求により、あらゆる種類の高純度ガスの需要が高まっています。

高純度ガスに要求される純度を達成し、維持するには、バルクやポイントオブユースの用途に適切なフィルターを選択することが非常に重要です。

ガスフィルターに求められる要求事項

IC製造における高純度プロセスガスへの要求により、フィルターのろ過性能評価基準を再考する必要性が生じています。

さまざまなフィルター製品から適切なものを選定する場合、粒子除去性能だけが判断基準ではありません。有害な不純物のアウト (脱) ガスおよび粒子放出(発塵)といった、フィルターの潜在的な影響も考慮しなければなりません。

この懸念は、フィルター部品やハウジングの場合にもあてはまります。

適切な材料選択、清浄度、ハウジングの表面処理、製品品質に対応した製造プロセス等が重要です。

当社の知識により、業界標準の実質的な事例を導入しています。

 

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半導体製造のガスろ過用途別カタログ
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ガスクリーン製品一覧はこちらです。

  • 大気からの水分や酸素による汚染を防止するために、高純度窒素でパージした特殊な2重梱包で包装されています。
  • 外装のアルミ材を含んだ蒸気透過防止袋により、さらに清浄度を保護します
   
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