半導体製造-ガスろ過用途別カタログ

題名 対象の
サブ
プロセス
プロセス
改善
ビジネス上の
利点
取り扱い
製品
アプリケーション
情報
ポール・ガスフィルター設置による
高精度ガス供給システム
N/A
  • 安定した純度を提供
  • ガス輸送システム内のアウト(脱)ガスから、大量の水分および酸素の排除
  • 真空チャンバーのポンプダウンタイムの短縮(高速化対応)
    より早いプロセスサイクル時間の実現
  • お客様のトータルコストの低減
ポール・チャンバークリーン・ディフューザーの設置による
ウェハー上のパーティクル除去
N/A
  • パージサイクルの短縮
  • 装置およびプロセススループットの向上
  • 乱流の低減(パーティクルの飛散低減)
  • ウェーハ上の付着粒子欠陥の低減
  • お客様のトータルコストの低減

ポール・ガスフィルターの設置による、
ガス供給システム

  • 直接捕集
  • 慣性捕集
  • 拡散捕集
  • 微小粒子および粗大粒子の除去
  • お客様のトータルコストの低減
刊行技術論文

ウルトラメットーL・フィルターの性能

     
エレクトロニクスグレード・ガスフィルターの
推奨交換時期
  • ポリシリコンのプラズマエッチング
  • 拡散炉のクリーンニング
  • 酸化プロセス
N/A N/A
注意深い部品選定による、
システム設置面積と運用コストの削減
 (PDF)
  • プラズマエッチング・プロセス
  • 装置設置面積への影響を最小限に抑えた流量増加対応製品
  • 装置設置面積の低減
  • 有害な汚染物質の除去
  • 校正回数の低減
  • 金属カルボニル複合体の除去
  • 有害な不純物水分の除去
  • 操業寿命の長期化
  • 交換回数の低減
  • 追加熱源の必要性を排除
  • 資本とメンテナンス費用の削減
  • 稼働時間の増加
  • 製品歩留まり率の向上
  • 追加資本、エネルギー、および維持費の回避
高純度の半導体ガス用途向け
316Lステンレススチール製フィルターの選択
N/A
  • 微粒子汚染の排除
N/A
  • すべてのガスクリーンおよびウルトラメット- L・フィルター
超高清浄度ガス供給システムにおける
フロロポリマーおよびオール・ステンレススチール製フィルターの使用
N/A
  • 微粒子汚染の排除
  • アウト (脱) ガスの最小化
N/A
高純度腐食性ガス供給システムにおける
ニッケルおよび316Lステンレススチール・フィルターの使用
N/A
  • UHPガスシステム内での耐腐食性の向上
N/A