半導体製造用ガスのろ過・精製

線幅が狭くなるにつれ、高純度ガスの必要性も増加しています。 ガスろ過・精製用の製品群は、お客様の超高純度ニーズを満たすためにお役にたちます。

ガスろ過

当社では、3 ナノメートル (nm) より大きな粒子を除去するためのPTFE、ステンレススチール、ニッケル、およびセラミック製のろ材を用いたろ過製品(フィルター)を幅広く提供しています。 真空アーク再溶解材料(VAR材)の業界標準を超える当社のステンレススチールのハウジング材料により、高度に研磨された裂け目のない表面(滑らかな表面粗度)が実現できます。 さまざまな製品サイズを取り揃えることにより、装置のポイントオブユース(POU)、バルクガス輸送システム、およびあらゆるポイントでの流量に対応できます。詳細はこちら...

ガス精製

ガス精製器は、水分、酸素、二酸化炭素、一酸化炭素、金属カルボニル、非メタン系炭化水素、およびその他の不純物分子を取り除きます。 当社独自の材料によって、不活性、可燃性、フッ化炭素系、酸素系、塩素系、腐食性などの幅広い種類のガスから、これらの不純物を基準値レベルまで除去できます。 すべてのガス精製器には、粒子除去用フィルターが内蔵されています。詳細はこちら...
 

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