ディスプレイ製造用-ガスのろ過・精製

ろ過

バルクおよびポイントオブユースのガスプロセスからの微粒子の除去は、液晶ディスプレイ製造において重要です。ガス用途向けのメンブレンフィルター、金属フィルター、またはセラミックフィルターの性能は、液体用途向けの場合と大きく異なります。ポールのガスフィルターのろ過精度は通常3nmです。これは、CNC凝結核カウンターで計測できる最小の粒子サイズです。

フィルターメディアの種類と形状

フィルターの膜材質としては、室温または高温条件化で不活性ガスや腐食性ガスへの適合性のある、PTFE、ステンレススチール、ニッケル、またはセラミックスの製品があります。

また、すべての流量要件を満たすために、小型・大型アセンブリー(金属製ハウジングに多様な膜材質のフィルターを内蔵したディスポーザブル・フィルター) から、ディスポーザブル・カートリッジまで、さまざまな形状の製品があります。

 

ディスプレイの概要ディスプレイ - 用途
ディスプレイ - 化学薬品ろ過
ディスプレイ - リソグラフィろ過
ディスプレイ - 液晶ろ過
ディスプレイ - ガスのろ過・精製
ディスプレイ - 超純水ろ過

ディフューザー

ガス・ディフューザーは、大量の気体が短時間に小さな開口部から流れる、小さなロードロック・インターフェースやその他の真空チャンバーでのベント用に適した製品です。チャンバークリーン・ディフューザーは、ステンレス製フィルターに独自のメンブレンを組み合わせたものです。この組み合わせによって、大量の気体を一定の方法で流すことができるため、チャンバー内の微粒子の乱流を抑制できます。気流の乱れを防ぎ、結果として、パーティクルの巻き上げがほとんどない状態ですばやくベントできることによって、ウェハー処理時間と装置全体の効率向上を実現できます。

精製

ピクセル密度の増加に伴い、以前は問題にならなかった不純物が現在では欠陥となり、品質と製品歩留りを低下させる可能性があります。不純物分子 (ガス不純物または揮発性不純物) は、最近では、PECVDおよびスパッタリング操作での欠陥の要因となる可能性が高まっています。一般的な不純物分子には、水分、酸素、二酸化炭素、一酸化炭素、炭化水素などがあります。これらの不純物は粒子ろ過では除去できないため、除去用の反応性層をもつ材料が必要となります。気流から不純物分子を除去するプロセスはガス精製と呼ばれます。

アレスクリーン・テクノロジー

アレスクリーンの素材は、ガス不純物との反応性に優れた完全な無機メディアです。ポールの精製技術により、不活性ガス、希ガス、水酸化物。パーフロロカーボン、腐食性ガスなどのガス中の不純物を1ppb以下まで除去します。 

当社の精製器には次のような特長と利点があります。

  • 室温で使用できるため、新たな熱源が不要です。
  • 優れた精製剤を小型で均一なフィルターメディアに一体化しており、精製器を垂直方向または水平方向のいずれにも取り付けることができます。
  • ガス精製器は、粒子除去に精製機能が付加されており、装置を変更することなく、既存ラインの粒子除去フィルターに代わってご使用できます。
  • 様々なガスを精製できる各ガス特有の精製剤を有しております。

精製器製品

ポールの精製器は幅広い流量に対応しています。


ディスプレイ製造用のガスろ過製品

アセンブリー

ガスクリーン 6101
ガスクリーン 6101シリーズフィルターは、プロセスガス用として、3ナノメートル (0.003μm) 以上のろ過用に設計されています。



ガスクリーン IV
ガスクリーン IV・フィルターこのフィルターは、超高純度の半導体プロセスガスの3ナノメートル (0.003µm) ろ過専用に設計されています。


ガスクリーン SIL
ガスクリーン SIL・フィルターこのフィルターは、流量が200scfmまでのプロセスの3ナノメートル (0.003μm) のろ過専用に設計されています。
   

ガスクリーン V 
ガスクリーン Vこれは、超高純度半導体プロセスガスのろ過用に設計された最新世代のガスフィルターです。

    
マキシ・ガスクリーン 8202/9202
マキシ・ガスクリーン 8202/9202このフィルターは、大流量用としての3ナノメートル(0.003μm)以上のろ過専用に設計されています。

    
マイクロ・クリーンチェンジ (ガスろ過)
マイクロ・クリーンチェンジ (ガスろ過)このフィルターは、低圧の超高純度のポイントオブユースでのガス向けに設計されています。

    
ハイフロー・ミニ・ガスクリーン
ハイフロー・ミニ・ガスクリーンこのフィルターは、超高純度ガスのポイントオブユースでのガスろ過向けに設計されています。

    
ミニ・クリーンチェンジ (ガスろ過)
ミニ・クリーンチェンジ (ガスろ過)このフィルターは、低圧の超高純度のポイントオブユースでのガスろ過向けに設計されています。

    
ミニ・ウルトラメット- L1100
ミニ・ウルトラメット- L1100シリーズこの製品は、半導体用ガスの3ナノメートル (0.003μm) 以上のろ過向けに設計されており、ポイントオブユースでの使用に適しています。

    
PFA ガスクリーン 6101
PFA ガスクリーン 6101シリーズこのフィルターは、3ナノメートル (0.003μm) 以上の酸素および特殊ガスのろ過向けに設計されています。


ウルトラメット- L4000シリーズ
ウルトラメット- L4000シリーズこの製品は、半導体プロセスガスの3ナノメートル (0.003μm) 以上のろ過向けに設計された独自のオール316Lステンレススチール製フィルターです。

    
ウルトラメット- L4400シリーズ
ウルトラメット- L4400シリーズこの製品は、316Lステンレススチールまたはニッケルに適合するプロセスガスを使用するすべての用途に適しています。


PGシリーズ・ガスクリーン・ピューリファイヤーおよびマニホールド
PGシリーズ・ガスクリーン・ピューリファイヤー、マニホールドこの製品は、最大1,000slpmのプロセス流量の処理に対応するよう設計されています。



フィルター

エンフロン (ガスろ過)
エンフロン (ガスろ過)このフィルターは、半導体業界で使用されるバルクガスの3ナノメートル (0.003μm) 以上のろ過向けに設計されています。


エンフロン PF (ガスろ過)
エンフロン PF (ガスろ過)これは、反応性の高いバルクプロセス・ガスの3ナノメートル (0.003µm) ろ過向けに設計されたオール・フロロポリマー製プリーツフィルターです。


ガスケットサート・フィルター
ガスケットサートこのフィルターは、半導体ガス供給システムで使用されるガスパネルの主要構成部品を保護するために設計されています。


ガスケットサートPSP
ガスケットサートPSPこのフィルターは、半導体ガス供給システムで使用されるガスパネルの主要構成部品を保護するために設計されています。

    
ハイフロー・エンフロン
ハイフロー・エンフロンこのフィルターは、LCDや半導体産業での、2,000Nm3/時間/1,000SCFM未満のバルク窒素およびクリーンな乾燥空気用に設計されています。


小流量用エンフロン (ガスろ過)
小流量用エンフロン(ガスろ過)このフィルターは、半導体製造装置で使用される不活性ガスの3ナノメートル (0.003μm) 以上のろ過向けに設計されています。

    
ウルチプリーツ PK CDA・フィルター
ウルチプリーツ PK CDAこのフィルターは、LCDや半導体産業で使用されるクリーンな乾燥空気および窒素での使用向けに設計されています。 10,000 SLPM (353 SCFM) までの流量に対応しています。

 

ディスプレイ製造用のガス精製製品

精製用製品

ガスクリーン ・ピューリファイヤー    1 1/8 インチ  Cシール
ガスクリーン ST・ピューリファイヤーこの精製器は、さまざまなプロセスガスからの汚染物質の除去を目的に設計されています。



ガスクリーンⅡ・ ピューリファイヤー
ガスクリーン Ⅱ・ピューリファイヤーこの精製器は、ほとんどのプロセスガスからの汚染物質の除去を目的に設計されています。



ガスクリーン SP・ピューリファイヤー
ガスクリーン SP・ピューリファイヤーこの精製器は、酸素分析装置で使用される酸化ジルコニウム (ZrO2) センサーを保護します。


    
ガスクリーン ST・ピューリファイヤー
ガスクリーン ST・ピューリファイヤーこの精製器は、さまざまなプロセスガスからの汚染物質の除去を目的に設計されています。


    
マキシ・ガスクリーン・ピューリファイヤー
マキシ・ガスクリーン・ピューリファイヤーこの精製器は、ほとんどのプロセスガスからの汚染物質の除去を目的に設計されています。


    
ミニ・ガスクリーン・ピューリファイヤー
このピューリファイヤーは、さまざまなプロセスガスからの汚染物質の除去を目的に設計されています。