データストレージ製造用無電解ニッケルめっき

アルミニウム基板上の無電解ニッケルめっき工程は、データストレージ用ハードディスクの製造にとってたいへん重要です。

アルミニウム基板上にめっきされるニッケル層の機能は、主に腐食への耐性を向上させるだけではなく、アルミニウム基板の硬度を高めます。ヘッドクラッシュが発生した場合に、ディスクの表面を損傷から守るためには、硬度を高めた基板が必要となります。

データ保管デバイスであるハードディスクの面記録密度が増加と、磁気ヘッドの浮上量が減少とともに、アルミニウム基板のめっき表面上のいかなる汚染物質に対しても許容できません。 ろ過は、無電解ニッケルめっき工程中に発生の可能性がある一般的な欠陥 (マイクロピッチング、めっき欠陥介在物) の除去するために重要です。

Pall Corporation offers a variety of membrane options which provide excellent removal retention, low pressure drop and minimal extractables.  

データストレージ製造
前処理工程用ろ過製品

フィルター

フロロダイン VAおよびフロロダイン TF
フロロダイン VA、フロロダイン TFこのフィルターは、ニッケルめっき循環槽で、迅速な槽洗浄を提供するのに最適です。


ウルチクリーンCDS
ウルチクリーンCDSThis filter is Pall's standard all-fluoropolymer cartridge for the semiconductor industry; designed primarily for use in today’s bulk chemical delivery systems.

ウルチプリーツ HP
ウルチプリーツ HPウルチプリーツ HP・フィルターは、迅速な槽洗浄を実現するために、循環ニッケルめっき槽での用途向けに設計されています。
  データストレージ概要ディスプレイ - 用途
データストレージ - 前処理
データストレージ - 無電解ニッケルめっき
データストレージ - CMP
データストレージ - 基板洗浄
データストレージ - 潤滑剤
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