データストレージ製造におけるCMPプロセス

CMPは、ガラスとアルミニウムの基板上に平坦で均等な表面を生成するためのプロセスです。 ヘッドがでこぼこした表面に接触するときに発生するヘッドクラッシュを防ぐには、これらの基板を非常に滑らかな状態に保つことが重要です。

フィルターは、通常、ハードディスク・ポリッシングシステム内の2か所に設置されています。-a) スラリー循環ループ内 と b) カプセルフィルターが研磨ツール近くに設置されているポイントオブユース (POU) -の2か所です。  これらのスラリーの平均粒径はほぼ200nmまで細かくなっているため、これらの基板を研磨する時に使用されるフィルターは、100nmを下回るろ過精度が必要となっています。

スラリー、POU向けに多様な膜や形状の製品により、基板/メディア製造における超平滑化の要求にお応えします。

CMPプロセス用ろ過製品
(データストレージ製造向け)

フィルター

ネクシス NXA・フィルター
ネクシス NXAこのフィルターは、高い差圧したでも、捕捉した汚染物質を再放出しません。

 
  データストレージ概要ディスプレイ - 用途
データストレージ - 前処理
データストレージ - 無電解ニッケルめっき
データストレージ - CMP
データストレージ - 基板洗浄
データストレージ - 潤滑剤Find a Pall Representative for Answers to Ordering Questions
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CMP用途向けプロファイル Ⅱ・フィルター
CMP用途向けプロファイル Ⅱ・フィルターこのフィルターは、スラリー粒度分布に影響を与えないと同時に、酸化物、タングステン、銅CMPスラリーから凝集粒子およびゲルを効果的に除去します。


プロファイル・スター
プロファイル・スターこのフィルターは、酸化物、タングステン、銅のCMPに使用するスラリーから凝集粒子およびゲルを除去するのに最適なオール・ポリプロピレン製でプリーツタイプのデプスフィルターです。

ポリファインXLD
ポリファインXLDこのフィルターカートリッジは、デプスフィルター技術とプリーツフィルター技術の2つを融合し、低い圧力損失で高流量を得ることができる、革新的な製品です。




ウルチポアGF-HV
ウルチポア GF-HVウルチポア GF-HV・フィルターは、高粘度で高粒子濃度のスラリーろ過の用途にとって最適です。